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scanning tunneling microscope) 非常に先端の細い探針を物質の表面に近づけ、探針と試料の間に流れるトンネル電流を基に試料表面の形状や、電子状態を観測する装置。探針位置を試料表面でスキャン(走査)することで、線上や面内の情報を得る。探針の先端を数十ナノメートル程度にまで細くすることで、高空間分解能で観測できる。[参照元へ戻る] ◆静電ポテンシャル 電気的な位置エネルギーのこと。電位とも言い、MKS単位系での単位はボルト(V)。[参照元へ戻る] ◆キャリア 半導体内で電荷を持って動くことで、電流となる粒子。半導体内を自由に動き、負の電荷を持つ電子と、電子が不足した状態であるが自由に動き、正の電荷を持つ正孔がある。[参照元へ戻る] ◆トンネル電流 電子がトンネル効果によって電位による障壁を透過することで流れる電流。STMでは探針と半導体試料の間の真空ギャップをトンネル電流が流れる。[参照元へ戻る] ◆ドーパント デバイスの動作に必要な電気特性を発現させるために導入される微量不純物元素。[参照元へ戻る] ◆大規模集積回路（LSI） シリコンなどの半導体基板上に、微細加工技術により大量のトランジスタなどの素子を作りこんだ回路。[参照元へ戻る] ◆空間分解能 測定可能な位置の精度。[参照元へ戻る] ◆n型・p型 半導体の不純物は種類によって、自由に動ける電子を与えるn型と、電子を不足させることで正の電荷をもつ正孔を与えるp型がある。半導体のn型領域はn型不純物、p型領域はp型不純物がより多い場所を指す。[参照元へ戻る] ◆TCAD （Technology CAD) 半導体デバイスの材質形状やドーパント不純物分布を予測する半導体製造プロセスシミュレーションと、デバイスの電気的特性を予測する半導体デバイスシミュレーションからなる、半導体デバイス開発用の CAD システム。[参照元へ戻る] ◆半導体製造プロセスシミュレーション 半導体製造プロセス条件とフォトマスク情報から、デポジション・エッチング・イオン注入・酸化・熱処理などの個々の製造工程をシミュレーションし、材質・形状とドーパント不純物濃度を計算するシミュレーション。[参照元へ戻る] ◆半導体デバイスシミュレーション 半導体の材質・形状と印加電圧などの動作条件の情報をもとに、ポアソン方程式・電子電流連続の式・正孔電流連続の式などの半導体の基本方程式を解いて、半導体デバイスの電気特性を計算するシミュレーション。[参照元へ戻る] ◆n+p接合 半導体のn型不純物が特に多いn+領域と、p型不純物が多いp領域が接触した構造。2領域に電圧を与える際、n+領域に正電圧を与えると電流が流れにくく、負電圧を与えると電流が流れやすい整流特性があり、ダイオードとして用いられる。[参照元へ戻る] ◆つくばイノベーションアリーナ ナノテクノロジー拠点（TIA-nano） TIA-nano は、世界水準の先端ナノテク研究設備・人材が集積するつくばにおいて、産総研、独立行政法人 物質・材料研究機構、国立大学法人 筑波大学および大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構が中核となり、さらに産業界が加わって、世界的なナノテクノロジー研究・教育拠点構築を目指すものであり、2009 年 6 月に発足した。 TIA-nano は、2010年 6月に閣議決定された『新成長戦略～「元気な日本」復活のシナリオ～』においても「21 世紀の日本の復活に向けた 21 の国家戦略プロジェクト」の中の一つに位置付けられており、今後ナノテクノロジーに係る研究開発・人材育成活動を軸に、わが国だけでなく世界的なイノベーションエンジンとなることが期待されている。[参照元へ戻る] ◆スーパークリーンルーム（SCR）産学官連携研究棟 この研究棟は、3000 m2のスーパークリーンルーム（空気清浄度 クラス 3（JIS 規格））と1500 m2の研究クリーンルーム（空気清浄度クラス 5（JIS規格））を備え、研究用のクリーンルームとしては世界トップクラスを誇る。この施設では、直径 300 mmのシリコンウエハーを用いた一貫試作ラインとシリコン以外のさまざまな材料に対応できる試作設備を利用して、現在、複数の研究開発プロジェクトが実施されており、わが国最大級の産学官連携研究拠点としての活動を推進している。[参照元へ戻る] お問い合わせお問い合わせフォーム 産総研について アクセス 調達情報 研究成果検索 採用情報 報道・マスコミの方へ メディアライブラリー お問い合わせ English ニュース お知らせ一覧 研究成果一覧 イベント一覧 受賞一覧 研究者の方へ はじめての方へ 研究成果検索 研究情報データベース お問い合わせ 採用情報 ビジネスの方へ はじめての方へ 研究成果検索 事例紹介 協業・提携のご案内 お問い合わせ AIST Solutions 一般の方へ はじめての方へ イベント情報 スペシャルコンテンツ 採用情報 お問い合わせ 記事検索 産総研マガジンとは 公式SNS @AIST_JP 産総研チャンネル 公式SNS @AIST_JP 産総研 チャンネル サイトマップ このサイトについて プライバシーポリシー 個人情報保護の推進 国立研究開発法人産業技術総合研究所 Copyright © National Institute of Advanced Industrial Science and Technology （AIST） （Japan Corporate Number 7010005005425）. 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